Sometimes engineers will use chemicals to clean up of the master on the photoresist or chemical substance, such as hydrogen peroxide, acetonic.
有师会拔取一些化学品去纯不母盘上的平刻胶或化学精神，水，丙酮。
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The wafer then travels to the photolithography tool where the design from the photo mask is transferred to each of the chips on the wafer by weakening the areas of photoresist hit by the light.
然后，硅片会送到光刻设备中，在那里，通过减弱光线照射到的光区域，将光掩模上的设计转移到硅片上的每个芯片上。
The wafer is doused in another chemical to wash away that weakened photoresist, leaving an image of the mask.
晶圆会种化学物质冲洗， 以清除那层削弱的光剂，留下掩模的图像。
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划词翻译
详细解释
师会拔取一些化学品去纯不
母盘上的平刻胶或化学精神，
水，丙酮。
送到光刻设备中，在那里，通过减弱
种化学物质冲洗， 以清除那层
