Sometimes engineers will use chemicals to clean up of the master on the photoresist or chemical substance, such as hydrogen peroxide, acetonic.
有时工程师会拔取一些化学不母平刻胶或化学精神，如双氧水，丙酮。
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The wafer then travels to the photolithography tool where the design from the photo mask is transferred to each of the chips on the wafer by weakening the areas of photoresist hit by the light.
然后，片会被送光刻设备中，在，过减弱被光线照射的光区域，将光掩模上的设计转片上的每个芯片上。
The wafer is doused in another chemical to wash away that weakened photoresist, leaving an image of the mask.
晶圆会被另一种化学物质冲洗， 以清除层被削弱的光剂，留下掩模的图像。
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划词翻译
详细解释
不
母
平刻胶或化学精神，如双氧水，丙酮。
片会被送
光刻设备中，在
，
过减弱被光线照射
