95 Abstract With the rapid development of the IC manufacture, the critical dimension(CD) of the manufacturable CMOS technology has been put into 90nm, even 65nm and below from 130nm.
摘 要 随着IC制造技术
快速发展,可量产
CMOS技术,其特征线宽也由0.13um 进入了90nm甚至65nm及以下。
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