Sometimes engineers will use chemicals to clean up of the master on the photoresist or chemical substance, such as hydrogen peroxide, acetonic.
有时工程师会拔取一些去纯不母盘上胶或精神，如双氧水，丙酮。
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The wafer then travels to the photolithography tool where the design from the photo mask is transferred to each of the chips on the wafer by weakening the areas of photoresist hit by the light.
然后，硅片会被送到刻设备中，在那里，通过减弱被射到的区域，将的设计转移到硅片的每个芯片。
The wafer is doused in another chemical to wash away that weakened photoresist, leaving an image of the mask.
晶圆会被另一种化学物质冲洗， 以清除那层被削弱的剂，留下的图像。
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划词翻译
详细解释
去纯不
母盘上
胶或
刻设备中，在那里，通过减弱被
射到的
的设计转移到硅片
