and a third device which does measuring to the thickness of the photoresistor of the wafer arranged on the sucking disc (2).
以及第三装置(5)，对安装在吸盘(2)上
晶片光敏电阻厚度进
测定。
and a third device which does measuring to the thickness of the photoresistor of the wafer arranged on the sucking disc (2).
以及第三装置(5)，对安装在吸盘(2)上晶片光敏电阻厚度进测定。
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